抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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50keVでN
+イオンをn-CdSに打込んだ。その結果表面層0.5μの深さにP形層ができた。イオン打込みによって生じた不純物準位をEPR信号で求めた。また.照射によるdefectのアニールの具合をEPRで調べた。P-N接合に流れるdiode currentは.拡散電流であることを示している。また.光電流を調べた所.N
+打込みによって,acceptorの生じていることがわかった;写図9表1