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J-GLOBAL ID:201602005299636657   整理番号:71A0136279

けい素-窒素化合物の化学XCリチウムビス(トリクロルシリル)アミドと純粋無機ハロゲンシランとの反応

Beitraege zur Chemie der Silicium-Stickstoff-Verbindungen. XC. Reaktionen des Lithium-bis(trichlorsilyl) amids mit rein anorganischen Halogensilanen.
著者 (3件):
資料名:
巻: 375  号:ページ: 157-165  発行年: 1970年 
JST資料番号: E0429A  ISSN: 0044-2313  CODEN: ZAACAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: ドイツ語 (DE)
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LiN(SiCl3)2はSiCl4.SiBr4.ISiCl3,GeCl4と反応して,デカクロル-N,N’-ビス(シリル)-シクロジシラザンを生成。この融点は66°C。またSiI4とは(Cl3Si)2N-SiH3を生成し,これは融点-50°,沸点91°/33torr。IR.Ramanスペクトルについても検討。またSiF4はビス(トリクロルシリル)-トリフルオルシリルーアミンを生成;表4参26
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