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J-GLOBAL ID：201602005479913888   整理番号：70A0036063

完全絶縁体中への二重注入:新しい解析結果

Double injection in the perfect insulator:Further analytic results.

著者 (2件)： ROSENBERG L M ,  LAMPERT M A
資料名： J Appl Phys  (Journal of Applied Physics)
巻： 41  号： 2  ページ： 508-521  発行年： 1970年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： トラップも無く,熱自由キャリアもない完全絶縁体中への二重注入の一般問題は,完全な解析的記述は難かしい。ここではσ,が非常に大きい場合と小さい場合の極限の場合の完全な解を導出する。ここで娠は電子一正孔再結合断面積である。この二つの極限の場合に得られた1-V特性はParmenterとRuppe1の一般的な解析的結果と正確に一致する。さらにσ,が中間値をとる場合に対してもRegiona1近似法を用いて近似解を求めた;写図8参5

シソーラス用語： キャリア ,  キャリア注入
準シソーラス用語： 二重注入 ,  二重注入(キャリア)

タイトルに関連する用語 (3件)： 絶縁体 ,  注入 ,  解析結果