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J-GLOBAL ID：201602005517481440   整理番号：71A0160631

キシランの過よう素酸酸化におけるヘミアセタール構造中間体

Transient hemiacetal structures formed during the periodate oxidation of xylan.

著者 (2件)： PAINTER T ,  LARSEN B
資料名： Acta Chem Scand  (Acta Chemica Scandinavica)
巻： 24  号： 7  ページ： 2366-2378  発行年： 1970年 
JST資料番号： A0314A  ISSN： 0001-5393  CODEN： ACSAA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： デンマーク (DNK)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： キシロースが平均42分子ほどβ-1,4位で縮環しているキシランを,メタ過よう素酸ナトリウムにより20°Cで酸化すると,見かけ上2次の反応速度定数は反応の進行とともに減少し,過よう素酸が0.6モル消費された段階でk₂が初期値の2%になり定常化。この段階でメチル化を行なった結果キシラン鎖に残っているヒドロキシル基は大部分ヘミアセタール構造のものであることが示された;写図8表2参19

シソーラス用語： キシラン ,  過よう素酸 ,  酸化
準シソーラス用語： キシラン(酸化) ,  キシラン酸化作用 ,  ヘキアセタール ,  ヘキアセタール(キシラン) ,  過よう素酸(キシラン酸化作用)

タイトルに関連する用語 (5件)： キシラン ,  過よう素酸 ,  酸化 ,  ヘミアセタール ,  中間体