光弾性のためのホログラマイのより進んだ応用

FOURNEY M E; MATE K V

文献

J-GLOBAL ID：201602005552099981 整理番号：70A0061319

光弾性のためのホログラマイのより進んだ応用

Further applications of holography to photoelasticity.

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資料名：
巻： 10 号： 5 ページ： 177-186 発行年： 1970年
JST資料番号： D0405A ISSN： 0014-4851 CODEN： EXMCA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

二重露出ホログラフィを用いて光弾性模型の主応力の和と差を求める方法と,模型を透過した偏光の状態を記録して再構成し,後で等傾線の全系を求める方法を述べる。応力のない状態とある状態に対する模型の透過光線を合成すると,光干渉計とよく似た理論により等厚線と等傾線の重なった虚像をうる。前者は普通の,後者は半調の黒線を結び区別できる。簡単な実例は普通の光弾性解折や理論解とよく合った。直交する2組の偏光を用いてホログラムを記録し再構出して等傾線をうるため必要な,両者の位相関係を解折的に導いた。この条件は非常にきびしいが応用例を示した;写図9参10

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