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J-GLOBAL ID:201602005607554624   整理番号:71A0120579

ヘキサフルオルアセトンおよびヘキサフルオルアゾメタンの光分解におけるトリフルオルメチルラジカルの反応

Reactions of trifluoromethyl radicals in the photolysis of hexafluoroacetone and hexafiuoroazomethane.
著者 (2件):
資料名:
巻: 74  号: 14  ページ: 2801-2805  発行年: 1970年 
JST資料番号: C0334A  ISSN: 0022-3654  CODEN: JPCHAX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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表記前者(HFA),後者(HFZ)のそれぞれ3130Å,3660Åでの光分解を0.1~8Torr,30~200°で研究。CF3のHFAへの付加反応は重要でないが,CF3はHFZに容易に付加し,k(付加)/〔k(結合)〕1/2=260e-39001〓2mol-1/2sec-1/2。CO2は高温,低照射度で重要となる。CO2の不均一生成の機構を考慮。HFZの光分解時における添加ガスの効果を研究。CF3ラジカルの結合には3体効果はみられないが,CO2生成速度は,CO添加で増大する;写図5表5参22
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