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J-GLOBAL ID：201602005667136082   整理番号：71A0372341

シリカゲル-H₂¹⁶O,D₂¹⁶O,H₂¹⁸O系のIR

著者 (2件)： 日野雅夫 (北海道工開試) ,  佐藤俊夫 (北海道工開試)
資料名： Bull Chem Soc Jpn  (Bulletin of the Chemical Society of Japan)
巻： 44  号： 1  ページ： 33-37  発行年： 1971年 
JST資料番号： G0450A  ISSN： 0009-2673  CODEN： BCSJA8  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリカゲル-H₂¹⁶O,D₂¹⁶O,H₂¹⁸Oおよび二,三の有機蒸気の系のIRを,870および950cm^-1付近の吸収に鋭敏な吸収帯を帰属するために測定.シリカゲルを重水素化すると870cm^-1の吸収が減少し,620cm^-1の吸収帯が出現する.水の吸収だけでなく,有機の蒸気の吸収によっても出現する750cm^-1付近の吸収帯は重水素化しても移動しないが,表面のシラノール基の160を18Oで置換すると,25cm^-1だけ低波数側に移動する.これらの事実から,870,620,950cm^-1での吸収帯は表面シラノール基のSi-OH変角,Si-OD変角,Si-O伸縮振動に帰属.シリカゲルのシラノール基の酸素原子は300°C以下の温度で処理した試料に対しては室温でも,吸着水分子の酸素と交換することがわかった.一方,800°Cでか焼した試料では約200°Cの高い反応温度が必要.酸素原子交換反応の機構を検討:参10

引用文献 (11件)：

• 1) M. L. Hair, “Infrared Spectroscopy in Surface Chemistry,” Marcel Dekker, Inc., New York (1967), p. 79.
• 2) M. R. Basila, “Applied Spectroscopy Reviews,” Vol. 1, Marcel Dekker, Inc., New York (1968), p. 296.
• 3) A. V. Kiselev and V. I. Lygin, Russian Chem. Rev., 31, 175 (1962).
• 4) H. Beutelspacher, VI Congres International de la Science du sol, Vol. B 329 (1956).
• 5) R. Soda, This Bulletin, 34, 1491 (1961).

タイトルに関連する用語 (2件)： シリカゲル ,  Ir