抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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シリカゲル-H
216O,D
216O,H
218Oおよび二,三の有機蒸気の系のIRを,870および950cm
-1付近の吸収に鋭敏な吸収帯を帰属するために測定.シリカゲルを重水素化すると870cm
-1の吸収が減少し,620cm
-1の吸収帯が出現する.水の吸収だけでなく,有機の蒸気の吸収によっても出現する750cm
-1付近の吸収帯は重水素化しても移動しないが,表面のシラノール基の160を18Oで置換すると,25cm
-1だけ低波数側に移動する.これらの事実から,870,620,950cm
-1での吸収帯は表面シラノール基のSi-OH変角,Si-OD変角,Si-O伸縮振動に帰属.シリカゲルのシラノール基の酸素原子は300°C以下の温度で処理した試料に対しては室温でも,吸着水分子の酸素と交換することがわかった.一方,800°Cでか焼した試料では約200°Cの高い反応温度が必要.酸素原子交換反応の機構を検討:参10