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J-GLOBAL ID：201602005701708813 整理番号：62A0066554
銅薄膜のCuO
0.67
への酸化
The oxidation of copper films to CuO
0.67
.
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資料名：
J Phys Chem (Journal of Physical Chemistry)
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巻：
66
号：
5
ページ：
816-821
発行年：
1962年
JST資料番号：
C0334A
ISSN：
0022-3654
CODEN：
JPCHAX
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
原著論文
発行国：
アメリカ合衆国 (USA)
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銅薄膜の低温酸化物を微量重量法,光学的方法および回折法を用いて研究.酸素圧100Torr,温度110~200°でCuO
0.67
の組成の酸化銅が得られた.これは真空中350°まで安定である.この酸化物はCu
2
Oの格子欠陥構造を有していると結論
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