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J-GLOBAL ID：201602005709783695   整理番号：64A0142502

日焼け臭の発生の原因となる重要な因子

Factors essential for the evolution of sunstruck flavor.

著者 (5件)： KUROIWA Y ,  HASHIMOTO N ,  HASHIMOTO H ,  KOKUBO E ,  NAKAGAWA K
資料名： Proc Am Soc Brew Chem  (Proceedings. American Society of Brewing Chemists)
巻： 1963  ページ： 181-193  発行年： 1963年 
JST資料番号： D0372A  CODEN： ASBCA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA) 

抄録/ポイント： 日焼け臭を酸化臭と比較しつつ発生因子であるイソフムロンの分解光化学的反応の存在,反応の起りつつあるビールの酸化還元電位の上昇,イソフムロン分解物(3-メチル,2-ブテニル基)と反応するとされているH₂Sの起源などについて実験を行なった;図7表14参20

タイトルに関連する用語 (3件)： 日焼け ,  原因 ,  因子