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J-GLOBAL ID：201602005779101761   整理番号：71A0027917

吸着原子間の基板を媒介とした相互作用

Substrate-mediated interaction between adsorbed atoms.

著者 (2件)： SCHICK M ,  CAMPBELL C E
資料名： Phys Rev A  (Physical Review. A)
巻： 2  号： 4  ページ： 1591-1597  発行年： 1970年 
JST資料番号： D0323C  ISSN： 1050-2947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 基板上に吸着した原子間の有効相互作用を計算した。相互作用は基板中のフォノンの交換から生ずるもので吸着系の粒子当りの基底状態エネルギーへの密度に依存した寄与を与える。ここの結果をスチユアートとダッシュによって研究されたアルゴンめつきした銅上に吸着した準単一層ヘリウム薄膜に適用した。その結果相互作用は引力で粒子当りの基底状態エネルギーに一1°K程度寄与していることを示した:参18

シソーラス用語： ヘリウム ,  基底状態 ,  吸着 ,  原子間相互作用 ,  銅 ,  薄膜

タイトルに関連する用語 (2件)： 吸着原子 ,  相互作用