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J-GLOBAL ID：201602005894371101   整理番号：71A0244668

化学的-機械的研摩

Chemical-mechanical polishing.

著者 (2件)： HUTCHINSON M A ,  VAUGHAN E V
資料名： IBM Tech Disclosure Bull  (IBM Technical Disclosure Bulletin)
巻： 13  号： 7  ページ： 2080  発行年： 1970年 
JST資料番号： E0292B  ISSN： 0018-8689  CODEN： IBMTA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化学反応が表面に嘘さ近ていて,反応副生成物が容易に除ける平面の化学研摩法。研摩剤はよう化カリを含んでおり,布で覆つた回転ディスクを使って,銅板の表面に形成したよう化銅を除去する。反応は表面に限られているので,板が平らに研摩されるまでに,高い部分のみが除ける

シソーラス用語： 研摩
準シソーラス用語： 超小形電子技術

タイトルに関連する用語 (2件)： 化学 ,  研摩