抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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高圧ポリエチレンや低圧ポリエチレン,30~60%のフタル酸ジオクチルを含むポリ塩化ビニルの厚さ0.2mm,表面積50.6~253cm
2のフィルムを切断した時に発生するラジカルを,ラジカル補促剤として0.57~0.99×10
-4mol/lのジフェニルピクリルヒドラジル(DPPH)のアルコール溶液を用い,試作したセル中でのDPPHの濃度化を光度測定して調べた。重合体の切断表面積を発生したラジカル濃度との間には直線関係が認められた。ポリ塩化ビニル中の可塑剤濃度を増すとラジカル発生率は減少するが,これは重合体鎖の内部運動に起因しよう;写図4表2参3