文献

J-GLOBAL ID：201602005961075636   整理番号：70A0030687

Ni表面での貴ガスの捕獲と熱的解放

Trapping and thermal release of noble gases at a nickel surface.

著者 (3件)： TRUHLAR J F ,  DONALDSON E E ,  HORNE D E
資料名： J Appl Phys  (Journal of Applied Physics)
巻： 41  号： 5  ページ： 2139-2145  発行年： 1970年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多結晶Niターゲット上の100~300eVAr+及びKビイオンの捕獲と熱的再放出について調べた。Ar+及びKr+に対して,捕獲確率はそれぞれ.100eVでは0.020と0,015であり300eVでは0.46と0.33である事がわかった。ターゲットの連続的な温度上昇によって,1.12,1.31,L48,1.67.L83及び2.13eVの活性化エネルギーに対応する温度で捕獲されているArが非連続的に解放される。各活性化エネルギーの原因について論ずる;写図8表1参44

シソーラス用語： アルカリ金属 ,  アルゴン ,  クリプトン ,  ニッケル ,  収着 ,  脱着
準シソーラス用語： 付着エネルギー ,  付着エネルギー(アルカリ金属)

タイトルに関連する用語 (4件)： Ni ,  貴ガス ,  捕獲 ,  解放