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J-GLOBAL ID:201602005978635791   整理番号:72A0030126

シリコンダイオード配列標的による電子顕微鏡像の直接強化

Direct intensification of electron microscopic images with silicon diode array target.
著者 (4件):
資料名:
巻: 31  号:ページ: 1849  発行年: 1971年 
JST資料番号: G0509A  ISSN: 0031-9015  CODEN: JUPSA   資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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これまでのSe標的が有していた弱点(低い感受性,遅いレスポンス演風高に暗電流,極度に短い寿命)を改良するために,ボロンを拡散ぎせたS1標的を電子顕微鏡像のTV化に応用。電子顕微鏡の加演雷庫が200-500kVのとき20総じてSiはSeより利点が多μのSi標的は良好な転位の像を与えた。いこどが刊明;与図1参3
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引用文献 (4件):
  • M. E. Haine and P. A. Einstein: Proc. IEE 109, Part B (1962) 185.
  • M. Mayeda et al.: Japan. J. appl. Phys. 9 (1970) 1183.
  • T. Imum etal.: Japan. J. appl. Phys. 10 (1971) 654.
  • Figure 1 (b) shows the current gain G (ratio of signal current produced by EBIC to bombarding current), which is used as a measure of intensification, of Si targets of various thickness against accelerating voltage V of EM, together with the corresponding data on conventional Se targets for comparison. The
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