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J-GLOBAL ID：201602006051687774 整理番号：60A0050448
浸潤熱 III SiO
2
-H
2
O系における基質構造の影響
Heats of immersion.III.The influence of substrate structure in the SiO
2
-H
2
O system.
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著者 (3件)：
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資料名：
J Phys Chem (Journal of Physical Chemistry)
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巻：
64
号：
3
ページ：
355-358
発行年：
1960年
JST資料番号：
C0334A
ISSN：
0022-3654
CODEN：
JPCHAX
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
原著論文
発行国：
アメリカ合衆国 (USA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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シリカの単位表面積当りの水の浸潤熱はシリカの大きさとともにし大きくなる。この効果をしらべ表面構造の変化を脱気体温度の関数として研究した。この研究と減量および水の吸着の実験と合わせて考記
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