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J-GLOBAL ID：201602006269069916   整理番号：71A0123327

金および銀薄膜の仕事関数 水銀およびキセノンの表面電位

Work functions of gold and silver films. Surface . potentials of mercury and xenon.

著者 (2件)： FORD R R ,  PRITCHARD J
資料名： Trans Faraday Soc  (Transactions of the Faraday Society)
巻： 67  号： 1  ページ： 216-221  発行年： 1971年 
JST資料番号： E0274A  CODEN： TFSOA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ガラス上に沈積した金および銀をアニールして作製した薄膜を水銀ポンプで排気している系に置いて1表面電位を測定した。膜上に水銀が吸着し,吸着面積が増加していくと.表面電位は上昇してゆき,金・銀でそれぞれ+0’80と-0.16Vの最大値に達する。最終的には,膜面は水銀自身と類似したものになっていると考えられるから,水銀吸着をしていない裸の金,銀薄膜の仕事関数として各5.3,4’4eVと計算できる。さらに裸の薄膜と水銀吸着した薄膜にそれぞれキセノンを。鈎理吸着させて表面電位を測定し.吸着の効果を調べた;写図3参15

シソーラス用語： キセノン ,  吸着 ,  金 ,  銀 ,  仕事関数 ,  水銀 ,  薄膜 ,  表面電位
準シソーラス用語： キセノン(表面電位) ,  吸着(水銀:キセノン) ,  金(薄膜) ,  銀(薄膜) ,  仕事関数(金;銀) ,  水銀(表面電位) ,  薄膜(金;銀)

タイトルに関連する用語 (6件)： 金 ,  銀薄膜 ,  仕事関数 ,  水銀 ,  キセノン ,  表面電位