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J-GLOBAL ID：201602006510767441   整理番号：71A0117931

オレフィンに対するシクロプロピルラジカル付加の相対速度 I

Relative rates of addition of cyclopropyl radicals to olefins. I.

著者 (3件)： STEFANI A P ,  CHUANG L-Y Y ,  TODD H E
資料名： J Am Chem Soc  (Journal of the American Chemical Society)
巻： 92  号： 14  ページ： 4168-4173  発行年： 1970年 
JST資料番号： C0254A  ISSN： 0002-7863  CODEN： JACSAT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： オレフィン系列に対するシクロプロピルラジカル付加の相対速度を,これらのラジカルの電子的及び立体的条件に関する知見を得る目的で測定した。二重結合のまわりのアルキル基の数が増すにつれ,反応性の単調な減少が見られた。オレフィンのイオン化ポテンシャルと速度の関係及び電気陰性的置換基の速度への影響から,シクロプロピルラジカルが求核的であることがはっきりした。活性化エネルギーとエントロビーの相補性が認められた。置換体の構造に伴なう活性化パラメータの変化から,遷移状態における電子的効果と,立体的効果の比例性が示された;写図8表3参51

シソーラス用語： オレフィン ,  付加反応
準シソーラス用語： オレフイン ,  オレフィン(シクロプロピルラジカル付加) ,  シクロプロピルラジカル ,  シクロプロピルラジカル(付加/オレフイン) ,  シクロプロピルラジカル付加 ,  付加 ,  付加反応(オレフィン/シクロプロピルラジカル)

タイトルに関連する用語 (3件)： オレフィン ,  シクロプロピルラジカル ,  相対速度