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文献
J-GLOBAL ID:201602006561127366   整理番号:58A0040593

けい素の表面的性質についてのある種化学的処理と周囲ふん囲気の影響

Effects of Certain Chemical Treatments and Ambient Atmospheres on Surface Properties of Silicon.
著者 (2件):
資料名:
巻: 105  号: 12  ページ: 709-714  発行年: 1958年 
JST資料番号: C0285A  ISSN: 0013-4651  CODEN: JESOAN  資料種別: 逐次刊行物 (A)
発行国: アメリカ合衆国 (USA) 
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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化学的処理とふん囲気を変えてn-およびP-形けい素について表面電気伝導,再結合速度および場の影響を測定した。与えられた処理では表面におけるフェルミ-準位の位置はゲルマニウムの場合とは反対に,本体のn-,p-形いかんには余り左右されない
タイトルに関連する用語 (5件):
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