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J-GLOBAL ID：201602006694655900   整理番号：71A0000726

陽イオン衝繋の際の電子増幅器の応答 II 二次電子のパルス高の分布

Electron multiplier response under positive ion impact. II. Secondary electron pulse height distributions.

著者 (3件)： Van GORKOM M ,  BEGGS D P ,  GLICK R E
資料名： Int J Mass Spectrom Ion P  (International Journal of Mass Spectrometry and Ion Physics)
巻： 4  号： 6  ページ： 441-450  発行年： 1970年 
JST資料番号： D0625A  ISSN： 0020-7381  CODEN： IJMIB   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 希ガス.N,N2.炭化水素などの陽イオンを,通常の質量分析計の操作条件下でCu-Be12段電子増幅器に衝繋させたときに生ずる二次電子のパルス高分布を測定した。イオンのエネルギーが7keVまでは.すべてのイオンについてPoiss。n分布を示した。また.Hg-2652A光を照射することにより,増幅器における分布はGauss分布であることが判明した。ピークの極大は2.8-6.8keVの範囲ではエネルギーの一次関数である。KビとC,Hlドにおける極大のエネルギー変化を検討すると,多原子イオンは衝撃の際に分解することも,また金属格子内に侵入することもないように思われる;写図6参30

シソーラス用語： 質量スペクトル ,  質量分析 ,  電子
準シソーラス用語： イオン衝撃 ,  イオン衝撃(二次電子分布) ,  パルス高分布 ,  質量スペクトル(陽イオン衝撃/電子分布) ,  電子(質量分析/パルス高分布) ,  電子分布 ,  二次電子分布 ,  陽イオン衝撃

タイトルに関連する用語 (6件)： 陽イオン ,  電子増幅器 ,  応答 ,  二次電子 ,  パルス ,  分布