抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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表面空間電荷容量を求めるため,CP
4でエッチしたGeを硫酸ソーダ溶液につけ分極化した後,直流に高周波を重ねtanδとインピーダンスを測った。低い周波数では複雑な現象を示すが,60Kc以上では空間電荷容量と半導体体抵抗の直列回路で近似出来る。表面電位と空間電荷容量の関係は真性Geの場合のみ理論に一致し,n型およびp型では表面が反転化を示すとき,容量の増加がみられた。これはn型では表面電極反応による少数キャリア注出のためと考えられるが,P型ではヘルムホルツ層が関与しているためと思われる;図8参7