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J-GLOBAL ID：201602006831986013   整理番号：67A0216591

薄膜のトンネルエミッタにおけるホット・エレクトロンの注入と放出

Injection and emission of hot electrons in thin-film tunnel emitters.

著者 (2件)： SAVOIE E D ,  ANDERSON D E
資料名： J Appl Phys  (Journal of Applied Physics)
巻： 38  号： 8  ページ： 3245-3265  発行年： 1967年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA) 

抄録/ポイント： Al-Al₂O₃-(AuまたはAl)構造の薄膜放出ダイオードについて研究した結果,薄膜内でエネルギー損失を生ずる内部TF放出による電子の注入に基ずいたモデルに一致することが分った。エネルギー損失△E=0.1eV,平均自由行程λ_i=6Åが得られた。薄膜試料に低エネルギーの電子線を照射すると,膜の多孔度を検出できることが分った。Auの膜を通してのホット・エレクトロンの放出の定量的評価も得られた;図21参59

タイトルに関連する用語 (6件)： 薄膜 ,  トンネル ,  エミッタ ,  エレクトロン ,  注入 ,  放出