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J-GLOBAL ID：201602007536402162   整理番号：65A0015007

化学的に沈殿させたCo-Ni薄膜の高い保磁力

Very high coercivity chemically deposited Co - Ni films.

著者 (3件)： JUDGE J S ,  MORRISON J R ,  SPELIOTIS D E
資料名： J Appl Phys  (Journal of Applied Physics)
巻： 36  号： 3pt2  ページ： 948-949  発行年： 1965年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA) 

抄録/ポイント： 30%~100%Co-Ni薄膜を,膜厚250~2500Åの範囲で科学的に沈着させて作った。結晶学的磁気的性質を成分および膜厚の関数として測定。X線解析の結果,Co薄膜は六方晶系を示すが,Niの増加と共に正方晶系の相が増加することが認められた。Co薄膜中では結晶は無秩序に配列しているが,Ni-Co薄膜中では六方晶相の(002)および立方晶相の(111)軸が基質に垂直に成長した。ある一定の厚さの薄膜で,保磁力はNi成分の増加と共に増大し,10~30%Niで1300Oeの極大を持つが,さらにNiが増加すると急速に減少した。Co薄膜では膜厚の増大と共に保磁力は減少した;図2参6

タイトルに関連する用語 (4件)： 化学 ,  沈殿 ,  薄膜 ,  保磁力