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文献
J-GLOBAL ID:201602007627630885   整理番号:68A0111565

水溶液の放射線化学における有効ラジカル収率のpH依存増加

0n a pH dependent increase in the yield of available radicals in the radiation chemistry of aqueous solu-tiona.
著者 (3件):
資料名:
巻: 59  号: 14  ページ: 177-188  発行年: 1968年
JST資料番号: E0443A  ISSN: 0044-3336  CODEN: ZPCFA   資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU) 
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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サフラニンTの空気飽和水溶液中でのガンマ線照射生成OHラジカルによる酸化反応のpH依存性をしらべた。この反応はHO2,O2-,H2O2によっては起らない。pH2以下でG(OH)はpH3以上での一定値~2.6より,一定値~3.2への見かけの増加を示し,G(H2O2)も同様な増加を示す。2.5-ジクロルヒドロキノン,よう化物イオン,過酸化水素などのスカベンジャーの効果をしらべ,ラジカル一次収率はpHで変化せず,再結合反応が影響を受ける機構を提案写図3表1参19
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