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J-GLOBAL ID：201602007643305790   整理番号：70A0048458

真空プロセスの計装 II

著者 (1件)： 藤田威雄
資料名： ケミカルエンジニヤリング  (Chemical Engineering (Tokyo))
巻： 15  号： 4  ページ： 361-370  発行年： 1970年 
JST資料番号： F0134A  ISSN： 0387-1037  CODEN： CMNGA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 真空プロセス系の圧力制御に対して,吸引,もらし,絞りの3つの制御方式が考えられる。スチームエジェクタを用いた真空プロセス系の制御において注意すべき点の一つとして,中間凝縮器の水温は冷却水量を絞ると出口水温が上昇し,後段electorに吸入される蒸気負荷が増大し吸入圧力が低下する。真空計装の問題点として,真空計の選定では,計器の動作範囲,ドリフトがおこりやすい,残留ガスなどの問題がある。動作範囲の問題点として,たとえばFuu Span 10 Torrの絶対真空計はプラント停止の際には760Torrすなわち76倍のover rangeとなる;写図14表6参4

シソーラス用語： 圧力制御 ,  計装
準シソーラス用語： スチームエジェクタ ,  計装(真空プロセス) ,  真空プロセス ,  真空プロセス(計装)

タイトルに関連する用語 (3件)： 真空 ,  プロセス ,  計装