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J-GLOBAL ID：201602007821621838   整理番号：72A0036110

ミクロプラズマの双安定状態に対する光照射の影響

Влияние освещенности на бистабильное состояние микроплазм.

著者 (3件)： ПАЛЕЙ В М ,  ВИКУЛИН И М ,  НОВПКОВ Л Н
資料名： Fiz Tekh Poluprovo  (Fizika i Tekhnika Poluprovodnikov)
巻： 5  号： 8  ページ： 1639-1641  発行年： 1971年 
JST資料番号： R0267A  ISSN： 0015-3222  CODEN： ETPPA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 旧ソビエト連邦 (SUN)  言語： ロシア語 (RU)

抄録/ポイント： GeのPN接合のミクロプラズマパルスのひん度に対する光照射の影響をしらべた。照射光強度Lがある値を越えるとひん度はLk(k=1.23~L25)に比例して増大する。ひん度の過電圧依存性は強度が増大する程大きくなる。照射を止めた後のひん度の減少は指数関数型である;写図3参4

シソーラス用語： PN接合 ,  ゲルマニウム ,  固体プラズマ ,  光照射
準シソーラス用語： 微小プラズマ

タイトルに関連する用語 (3件)： プラズマ ,  安定状態 ,  光照射