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J-GLOBAL ID：201602007931874677   整理番号：73A0374653

Alの水腐食反応時に生ずる水和被膜の赤外反射スペクトル

著者 (2件)： 高村勉 (東芝(総研)) ,  木原森下泰周 (東芝(総研))
資料名： 電気化学および工業物理化学  (電気化学)
巻： 40  号： 10  ページ： 757-762  発行年： 1972年 
JST資料番号： G0072A  ISSN： 1344-3542  CODEN： EECTFA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN) 

抄録/ポイント： Alの水腐食反応生成物である水和被膜の化学構造を赤外反射スペクトル(IRRS)で究明.Alの自然酸化被膜は高周波側1,135~890cm^-1にνAlOに帰属する吸収バンドを示し,被膜内に配位数が4より少ないAlの存在を示唆.水腐食反応により最初にAl表面に生ずる被膜は水浴温度にかかわらず無定形Al₂O₃である.水和被膜は多相構造を有し浴温によって異なり,50~80°Cで変化がとくに顕著である.水腐食反応の初期段階にて結晶性水酸化物相の成長は遅く,50°Cの場合,浸せき240分以内で得られる被膜は大部分無定形酸化物相で,80°Cの場合でも120分以内で得られる被膜には多量の無定形水酸化物相が含まれる.80°C以上の場合,浸漬時間が短い時プソイドベーマイトに似たAlOOH相の生成を認めた:参22

タイトルに関連する用語 (6件)： Al ,  水 ,  腐食 ,  水和 ,  被膜 ,  赤外反射スペクトル