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J-GLOBAL ID：201602008224929950   整理番号：71A0134685

化学的に改良したシリカゲルの窒素吸着

Nitrogen adsorption on chemically modified silica gels.

著者 (2件)： SORRELL J B ,  ROWAN R Jr
資料名： Anal Chem  (Analytical Chemistry)
巻： 42  号： 14  ページ： 1712-1715  発行年： 1970年 
JST資料番号： A0395A  ISSN： 0003-2700  CODEN： ANCHAM  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリカゲル表面に不規則に散在する水酸基が表面の不均一性の因となっていることが広く認められている。この水酸基にクロルノランやアルコールを作用させ,つまりSiOH→SiOSiR₃またはSiOH→SiORとすることにより,吸着剤の均質性を向上させることを試みた。処理表面の物性とそのGCあるいはその他のクロマトグラフィー吸着剤としての挙動の相関を明らかにするため,窒素の等温吸着をモデルとして表面積,平均吸着熱その他を検討した。表面の化学処理によって高エネルギー吸着点濃度が減少し,均一性が増大,クロマトグラフに適した表面となることを示した;写図6表2参24

シソーラス用語： クロマトグラフィー ,  シリカゲル ,  吸着 ,  吸着剤 ,  窒素
準シソーラス用語： 窒素(吸着)

タイトルに関連する用語 (3件)： 化学 ,  シリカゲル ,  窒素吸着