抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
ダイオードのN形基板領域は,高遠中性子照射により漸次P型に変る.そのさい幾何学的な関係,縁附近の逆転層の厚さ,空間電荷分布は変化しない.これらの数値的な関係について述べる.照射中第一次近似で表面電荷密度が一定であるとすると,N形基板のドープ量変化によって逆転層の厚さが減少することになる;図4参8