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J-GLOBAL ID：201602008537912705   整理番号：70A0365789

中性子照射ニッケルの水素化触媒活性

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著者 (1件)：
吉野富雄

吉野富雄 について

(徳島大(医))

徳島大(医) について


資料名：
日本化学雑誌

日本化学雑誌 について


巻： 91  号： 1  ページ： 86-87  発行年： 1970年 
JST資料番号： F0226A  CODEN： NPKZA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN) 
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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中性子照射ニッケルと未照射ニッケルを使用し,アセトンの水素化における触媒活性,焼鈍法による触媒活性と活性点の関係を検討.未照射触媒は110~200°C間焼鈍によりその活性の約70%を失う.この触媒を600°Cで焼鈍し中性子線を照射すると一度消失した活性の大部分が回復するが,照射触媒を110~200°C間で焼鈍すると照射で付与された活性のほとんどがなくなる.110~200°C間の焼鈍で活性が低下するのは活性点がこの温度域で消失するからと考え,この活性点は中性子照射で生じた格子欠陥であると推論:参7
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中性子照射

中性子照射 について

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ニッケル

ニッケル について

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水素化

水素化 について

, 
触媒活性

触媒活性 について


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