文献

J-GLOBAL ID：201602008659714351   整理番号：72A0034427

NaCl基板上のエピタクシー銅膜に対する水蒸気露出の効果

Effect of water vapor exposure on the epitaxy of copper films on sodium chloride.

著者 (3件)： CZANDERNA A W ,  BRENNAN B W ,  CLARKE E G Jr
資料名： Phys Status Solidi A  (Physica Status Solidi. A. Applied Research)
巻： 8  号： 2  ページ： K75-K79. 625(2)  発行年： 1971年 
JST資料番号： D0774A  ISSN： 0031-8965  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： へき開して碍NaC1基板を真空加熱でエッチした後,種々の蒸気圧の水蒸気中に数時間置いた後銅を蒸着し,その蒸着銅を電子顕微鏡で観測した。舘5°Cで2.5xlO4Torτ.h以上水蒸気中にさらした基板にはエピタクシー銅が出来,単結晶の薄膜が得られることが分った;写図1表1参22

シソーラス用語： 金属薄膜 ,  水蒸気 ,  電子回折 ,  銅
準シソーラス用語： NaCl ,  エピタクシー膜

タイトルに関連する用語 (4件)： NaCl ,  エピタクシー ,  銅 ,  水蒸気