文献

J-GLOBAL ID：201602008969318359   整理番号：71A0036721

低温の基板に真空沈積した貴金属薄膜の回復過程

著者 (3件)： YAMAKAWA K ,  NAKAO M ,  FUJITA F E
資料名： Jpn J Appl Phys  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 9  号： 9  ページ： 1045-1056  発行年： 1970年 
JST資料番号： G0520A  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 液体ヘリウム温度に保った雲母の薄片上に真空中で沈砧した金.銀及び銅の薄膜の電気抵抗の回復を研究した。金の薄霞の画復は801K以下で照射した金と類似した数段のサブステージを示し.点欠総二よる回復である事が予想される。より高温では点欠陥と粒子の成長が共に回復に寄与する。回復領域の活性エネルギーは。13’Kで0-013eV.55’Kで0.14eVである。銀と銅では20’K-・40’K:j逆慨なまし過程を示し.これは残留ガス:ご関係しているものと思われる;図14表3参23

シソーラス用語： 回復 ,  貴金属 ,  金 ,  銀 ,  電気抵抗 ,  銅 ,  薄膜
準シソーラス用語： 貴金属((薄膜) ,  電気抵抗(薄膜)

タイトルに関連する用語 (4件)： 低温 ,  真空 ,  金属薄膜 ,  回復過程