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J-GLOBAL ID：201602009162691370   整理番号：72A0202151

多孔性基質のCVD炭素浸透

A review of CVD carbon infiltration of porous substrates.

著者 (1件)： KOTLENSKY W V
資料名： Sci Adv Mater Process Eng  (Science of Advanced Materials and Process Engineering Proceedings)
巻： 16  ページ： 257-265,265(1)-265(14)  発行年： 1971年 
JST資料番号： A0662A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CVD炭素浸透によるち密化は,各種の多孔性炭素-グラファイト基質の利用に特異な方法である。浸透された多孔性基質は多結晶グラファイトと同じ多くの異なる構造の繊維質生地を含んでいる。浸透は,内部繊維に炭素を沈殿させるために,または真空を充たすために十分な温度まで加熱した多孔性基質に炭化水素ガス(天然ガス)を通じて行なわれる。CVD浸透法には,等温法,熱こう配,圧力こう配の三つが使われている。多孔性基質が三つの浸透法によりち密化される程度は1特殊な工程技術と骨格構造の融合に依存する1写図12表2参li

シソーラス用語： セラミック被覆 ,  ち密化 ,  蒸着 ,  多孔質 ,  炭素
準シソーラス用語： セラミックコーティング

タイトルに関連する用語 (5件)： 多孔性 ,  基質 ,  CVD ,  炭素 ,  浸透