文献

J-GLOBAL ID：201602009192856145   整理番号：70A0066077

光学的ひずみ解析に用いるフオトレジストの調査

An investigation of photoresists for use in optical strain analysis.

著者 (2件)： LUXMOORE A ,  HERMANN R
資料名： J Strain Anal  (Journal of Strain Analysis)
巻： 5  号： 3  ページ： 162-168  発行年： 1970年 
JST資料番号： B0868A  ISSN： 0309-3247  CODEN： JSTAB   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： モアレ法に用いる市販の標記材料を調査した。重クロム酸塩系エナメル,KodakとShipleyとOzalidの合成レジン系の7種を1.5×2inのAL板に使用した結果を示す。重クロム酸塩系はもっとも扱いにくく,配合後の寿命が短く1000本/inが限度で,120°Cの加熱では明確になるが200°Cでは線が消える。レジン系は400°Cに耐え,2500本/in以上が可能で,コントラストはKodakが最良だが透明材料では光を透す。他の2社の現像液は腐食性で問題である。復写ラッカーはOzalidが便利だった。金属でコントラストを改善する処理法を4通りと線密度を高めるための問題にもふれる;写図10表1参8

シソーラス用語： フォトレジスト
準シソーラス用語： フォトレジスト(モアレ法) ,  モアレ法 ,  合成レジン系

タイトルに関連する用語 (3件)： 光学的ひずみ ,  解析 ,  調査