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J-GLOBAL ID：201602009366157519   整理番号：71A0373011

放射線グラフト高分子の合成およびその化学レオロジー的研究 I 橋かけ高分子の化学レオロジー

著者 (2件)： 村上謙吉 (東北大(非水化研)) ,  田村三郎 (東北大(非水化研))
資料名： 旭硝子工業技術奨励会研究報告  (Reports of the Asahi Glass Foundation for Industrial Technology)
巻： 16  ページ： 25-38  発行年： 1970年 
JST資料番号： G0061A  ISSN： 0365-2599  CODEN： AGKGAA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN) 

抄録/ポイント： 橋かけ構造の異なるEPTについての109°Cにおける応力緩和機構を検討.その結果,ペルオキシド橋かけEPTは安定であり,主鎖も橋かけ切断をうけないことが判明.またいおう橋かけEPTでは,ポリスルフィドの典型的な交換反応とモノー,ジースルフィドの酸化切断を生じた.テトラメチルチウラムジスルフィド(TT)橋かけEPTではモノーとジースルフィドの酸化切断による応力低下があることが判明.これらの結果から,TT橋かけ天然ゴムについて,著者らが提案した同時切断の理論式を用いて理論と実験の一致の程度を比較検討:参8

タイトルに関連する用語 (6件)： 放射線 ,  グラフト ,  高分子 ,  化学レオロジー ,  研究 ,  橋かけ高分子