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J-GLOBAL ID：201602009812382360   整理番号：72A0130093

CVD過程:析出速度に影響を及ぼす因子

CVD processes: Factors influencing deposition reates

著者 (1件)： LYDTIN H
資料名： Int Conf Chem Vap Depos  (International Conference on Chemical Vapor Deposition)
巻： 2  ページ： 71-88  発行年： 1970年 
JST資料番号： E0761A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 予稿  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CVD過程を熱力学的に取扱い実験方法を検討した。蒸着を行なうた,めに次の三条件が必要である。1)析出物質は気相中で化合物を作る,2掴的物質の気相での溶解度は温度依存性がある,3)熱力学的平衡が妨げられない。これらから出発してC-0系,CS系,C-0-S系さらに実用上有用なC,H,系の平衡を検討し,温度一溶解曲線を求めた。熱力学的考察から,一定圧力.組成からの析出に基板は低温である必要性が明らかになった。衝突の運動学的検討の結果,基板を回転して用いることによりタンタル上へのCzH,からのCの析出速度を増すことができた;写図11参10

シソーラス用語： 蒸着 ,  炭素 ,  熱力学

タイトルに関連する用語 (4件)： CVD ,  過程 ,  析出速度 ,  因子