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J-GLOBAL ID：201602009898764235   整理番号：70A0033145

多結晶タングステンからの電子衝撃によるイオンおよび中性粒子の脱着の機構

Kinetics of electron impact desorption of ions and neutrals from polycrystalline tungsten.

著者 (2件)： NISHIJIMA M ,  PROPST F M
資料名： J Vac Sci Technol  (Journal of Vacuum Science & Technology)
巻： 7  号： 3  ページ： 420-428  発行年： 1970年 
JST資料番号： C0789A  ISSN： 0022-5355  CODEN： JVSTAL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 固体表面から電子衝撃によって脱着してくるイオンおよび中性粒子を研究するために円筒形磁気質量分析計を製作した。この装置を使用してO,.CO,CO,,N,,H,,およびH,Oを吸着した多結晶タングステンからの脱着を研究。吸着および脱着プロセス,吸着の状態,脱着の全断面積などについて報告している;写図13表1参15

シソーラス用語： タングステン ,  吸着 ,  質量分析計 ,  脱着 ,  電子照射

タイトルに関連する用語 (6件)： 多結晶 ,  タングステン ,  電子衝撃 ,  イオン ,  中性粒子 ,  脱着