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J-GLOBAL ID：201602010042469656   整理番号：71A0014461

微小電子工学に応用するための電子線とイオン線の総括報告

A review of electron and ion beams for microelectronics applications.

著者 (1件)： BREWER G R
資料名： Proc Symp Electron Ion Be  (Proceedings of the Symposium on Electron and Ion Beam Science and Technology)
巻： 4  ページ： 455-480  発行年： 1970年 
JST資料番号： E0770A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 微小エレクトロニックスに対する電子線とイオン線の応用は急速に応がっており.微小焦点の電子線は集積回路と半導体素子の検査に用いられ,光学的検査よりも多くの知識が得られた。イオン線による種々の元素の半導体への打込みは新しい半導体素子を工業的に製作することができるような段階に来ている。粒子線利用の方法,分解能,記録速度を述べている;写図15参22

シソーラス用語： イオン注入 ,  集積回路 ,  半導体
準シソーラス用語： イオンインプランテーション ,  イオン線応用 ,  電子線応用

タイトルに関連する用語 (6件)： 微小 ,  電子工学 ,  応用 ,  電子線 ,  イオン ,  報告