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J-GLOBAL ID：201602010150458776   整理番号：70A0352164

5アミノテトラゾール置換体のγ線照射で生ずるラジカル

Radicals produced during γ-irradiation of 1-sub-stituted 5-aminotetrazoles.

著者 (3件)： BUTLER R N ,  CATION R C ,  SYMONS M C R
資料名： J Chem Soc B  (Journal of the Chemical Society. B. Physical Organic Chemistry)
号： 2  ページ： 378-380  発行年： 1970年 
JST資料番号： B0608A  CODEN： JCSPA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： R¹-N(-R²)-C-A〔A:=N-N=N-N(-R³)-〕左の化合物でR¹,R²,R³をメチル基などで置換した誘導体の多結晶質固体を77°Kおよび室温で照射した。低温ではCH₃,R-CH₂およびR²=NO₂の誘導体からはNO₂が主として生成し,室温ではR-CH₂のみが観測された。R-CH₂についてはαプロトンの|Aiso|およびgの平均値を求め既知のR-CH₂型ラジカルの値と比較した。上記三種のラジカルの生成機構について考察した

シソーラス用語： アミン ,  ラジカル ,  結晶 ,  放射線効果
準シソーラス用語： γ線 ,  有機窒素化合物 ,  遊離基

タイトルに関連する用語 (4件)： アミノテトラゾール ,  置換 ,  γ線 ,  ラジカル