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J-GLOBAL ID：201602010283551485   整理番号：73A0031224

プラスチックの高周波スパッタリング

R.F. sputtering of plastics.

著者 (2件)： MORRISON D T ,  ROBERTSON T
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 15  号： 1  ページ： 87-101  発行年： 1973年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： コンデンサーとして優れた電気的特性を有する誘電体薄膜を形成するために高周波スパッタリングを用いた。PTFE(ポリテトラフルオルエチレン)膜を形成するための装置の構成と特性について述べた。作った膜と通常のPTFEとを比較し,電気特性を調べた;写図19表2参16

シソーラス用語： スパッタリング ,  薄膜 ,  誘電体薄膜
準シソーラス用語： ポリテトラフルオルエチレン

タイトルに関連する用語 (2件)： プラスチック ,  高周波スパッタリング