文献

J-GLOBAL ID：201602010448839420   整理番号：70A0249652

強度空間フィルタリングによる半導体ウエファ表面の検査

Semiconductor surface inspection in intensity spatial filtering.

著者 (1件)： NICOLA R O
資料名： IEEE Int Conv Dig  (IEEE International Convention Digest)
巻： 1970  号： DIGEST  ページ： 274-275  発行年： 1970年 
JST資料番号： C0216B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 予稿  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 基板に蒸着されたエピタキシャル層の結晶学的完全性は基板表面の質に大きく左右されるので,表面の検査が重要である。強度空間フィルタ法により直接,定量的に表面を検査することができる。すなわち,表面の2次元信号はレンズを通ると焦点面で空間周波数の関数にFourier変換され,ここで,任意のフィルタ(本文では高域フィルタ使用)を用い,つぎに第2のレンズで逆変換を行なえば,表面の欠陥を明確にテレビカメラで調べることができる。高域フィルタはガラス板に不透明な点をつけたものでこれをレンズの焦点に置く;写図3参2

準シソーラス用語： レーザ検査 ,  レーザ検査(半導体ウエファ表面) ,  強度空間フィルタリング ,  強度空間フィルタリング(半導体ウエファ表面検査) ,  半導体ウエファ ,  半導体ウエファ(表面検査/強度空間フィルタリング) ,  半導体ウエファ表面 ,  半導体ウエファ表面検査 ,  表面検査

タイトルに関連する用語 (3件)： 空間フィルタリング ,  半導体ウエファ ,  検査