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J-GLOBAL ID：201602010498910176   整理番号：72A0042537

種々の方法で作った非晶質ゲルマニウム膜の電気的光学的性質

Electrical and optical properties of amorphous germanium layers prepared by various techniques.

著者 (8件)： KOC S ,  KUBELIK I ,  ROZSIVAL M ,  STOGRAC L ,  TRISKA A ,  VORLREK V ,  ZAVETOVA M ,  ZEMEK J
資料名： Proc Intern Conf Phys Chem Semiconductor Heterojunctions Layer Struct Budapest Vol III  (Proceedings. International Conference on the Physics and Chemistry of Semiconductor Heterojunctions and Layer Structures 701011 Vol.3)
ページ： 163-171  発行年： 1971年 
JST資料番号： K19700153  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： ハンガリー (HUN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電気メッキ法・カソードスパッタリング法,真空蒸着法で作ったGe非晶質膜について・その特性を比較検討した。その結果,電気的特性(伝導度,磁気抵抗効果1には,はっきりした差異が現われたが,X線回折等では差異が検知できなかった。また光の吸収係数にも大きな差はみられないことが分つた;写図6表1参9

シソーラス用語： ゲルマニウム ,  光学的性質 ,  電気的性質
準シソーラス用語： 無定形薄膜

タイトルに関連する用語 (3件)： 非晶質 ,  ゲルマニウム ,  光学的性質