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J-GLOBAL ID：201602010750651332 整理番号：65A0028168
クロム薄膜の抵抗率と構造
The resistivity and structure of chromium thin films.
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著者 (1件)：
GOULD P A
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資料名：
Br J Appl Phys (British Journal of Applied Physics)
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巻：
16
号：
10
ページ：
1481-149115984
発行年：
1965年
JST資料番号：
B0092A
CODEN：
BJAPA
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
原著論文
発行国：
イギリス (GBR)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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真空蒸着したクロム膜の抵抗率と構造をしらべる。10
-9
Torrにて蒸着したクロム膜の抵抗率は基板温度が300°Cおよび20°Cのときそれぞれ厚い金属クロムの抵抗率の1.5倍および4倍となった。またこれらの温度に対し真空度を10
-5
Torrによると2倍および6倍となった。電子顕微鏡による膜構造の観測および膜の密度,不純物,残留ガス等の測定によると,膜は高純の結晶粒とこのまわりをとり巻く不純物から成る。この粒度と不純物含有量は共に蒸着条件によって変化し,膜の抵抗率を決める重要な因子である;写4図8表2参16
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