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J-GLOBAL ID:201602011008740835   整理番号:65A0021075

III-V化合物P-N接合のトンネル効果

Tunneling in III-V compound p-n junctions.
著者 (2件):
資料名:
巻: 15  号:ページ: 160-163  発行年: 1965年 
JST資料番号: H0070A  ISSN: 0031-9007  CODEN: PRLTAO  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA) 
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GaP,InP,GaAsについて零バイアス付近の抵抗-電圧曲線の様子を1°K付近で測定し従来に見られない効果が見出された。InP接合では1180%もの抵抗増大変化がみられる。効果は接合両側の不純物濃度に依存する。このI-V特性は一種類の異常(状態密度の対数的特異性)だけでなく,数種の異常性の重合せと考えられる
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