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J-GLOBAL ID：201602011040307035   整理番号：70A0124983

飽和および不飽和のモノおよびジカルボン酸中に照射により生成したラジカルのESR

Etude par R.P.E.des radicaux produits par irradiation dans quelques acides mono et dicarboxyliques,satures et non satures.

著者 (4件)： LEIBLER K ,  WOZNIAK J ,  KRAUZE S ,  CHECINSKI K
資料名： J Chim Phys Phys Chim Bio  (Journal de Chimie Physique et de Physico-Chimie Biologique)
巻： 67  号： 4  ページ： 743-745  発行年： 1970年 
JST資料番号： C0277A  ISSN： 0021-7689  CODEN： JCPBAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： フランス (FRA)  言語： フランス語 (FR)

抄録/ポイント： 77°~293°Kの温度範囲において標記のカルボン酸に対してコバルト-60を線源としたγ線を照射し,照射物のESRの測定を行ない生成ラジカルの型,ラジカルを生成する結合の型および位置,カルボキシル基からの距離について論じた。類似性にもとずいて,いくつかの代表的なラジカルの型を区別し,生成条件を確立し,加熱によるラジカル的変換についてラジカルの動きやすさの立場から説明。実験はパルミチン酸,ステアリン酸,オレイン酸,リノール酸,こはく酸,マレイン酸など9種の酸について行なった;写図3参8

シソーラス用語： カルボン酸 ,  電子スピン共鳴
準シソーラス用語： γ線照射 ,  γ線照射(カルボン酸) ,  γ線照射カルボン酸 ,  カルボン酸(γ線照射) ,  電子スピン共鳴(γ線照射カルボン酸)

タイトルに関連する用語 (5件)： 飽和 ,  不飽和 ,  ジカルボン酸 ,  ラジカル ,  ESR