抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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半導体素子のパシベーション膜として,ガラスは優れた性質をもつている。パシベーション用ガラスは,アルカリイオンを含まないこと,Siと膨張係数が等しいこと,軟化温度が低いこと,絶縁特性が良いことを要する。Si表面にSiO
2,膜を形成してから,その上にガラス粉末を,沈積法,塗布法,印刷法,フォドレジスト法,スパッタリング法,等で被覆して焼つける;写図21表3参9