抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
真空熱処理により温度係数の低いTaN薄膜抵抗を製作することが出来る。真空において450°Cで熱処理を施し,520°Cにおける温度係数をOppm/°Cにおさえることが出来た。温度を±5°Cに保つことが出来れば±10ppm/°Cの温度係数に保つことが可能である。N
2水準における構造,格予定数(A)をX線を用いて測定し,抵抗の安定度を見る。格予定数は3.04Aから5.39Aまで変動しスパツタ確後と熱処理後との比は,-0.55から+0.9まで変わる;写図5参