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J-GLOBAL ID：201602011660170188   整理番号：71A0186619

無電解メッキにおける陰イオン抑制

Anionic inhibition in electroless plating.

著者 (2件)： FELDSTEIN N ,  AMODIO P R
資料名： J Electrochem Soc  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 117  号： 9  ページ： 1110-1113  発行年： 1970年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 0013-4651  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 特殊なオキシ陰イオン群の集合に伴うNiの無電解めっきの抑制は界面吸着機構でよく説明できる。抑制剤濃度を変えて行った実験結果より,吸着層と次亜りん酸塩間の化学的相互反応とそれによる次亜りん酸塩P-H結合の強化,吸着陰イオンによる二重層の構造変化とそれによる表面吸着率の増加とレドックス反応への影響,次亜りん酸塩の陽極酸化のための触媒的な位置の急激な減少などについて検討;写図6参11

シソーラス用語： ニッケル ,  無電解めっき
準シソーラス用語： ニッケル(無電解めっき) ,  陰イオン抑制 ,  無電解めっき(ニッケル/陰イオン抑制)

タイトルに関連する用語 (2件)： 無電解メッキ ,  陰イオン