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J-GLOBAL ID：201602011735794280   整理番号：72A0023792

カルバマート影響下で形成される超分子構造ポリオキシメチレンジアセタート薄膜の形態と光散乱

Морфология и светлинно разсейване на надмолекулни структури, образувани в тънък слой от полиоксиметилендиацетат под влияние на уретани.

著者 (3件)： МИХАЙЛОВ М ,  НЕЕВА Н ,  НЕДКОВ Е
資料名： Izv Otd Khim Nauki  (Izvestiya na Otdelenieto za Khimicheski Nauki)
巻： 4  号： 2  ページ： 305-309, 308(1-4)  発行年： 1971年 
JST資料番号： B0855A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ブルガリア (BGR)  言語： ブルガリア語 (BG)

抄録/ポイント： フェニルウレタンーエタノール,一プロパノール,一ブタノ・一ルなどによるポリオキシメチレンジアセタート(1)の変性を検討し,1とカルパマートの薄膜融解物の冷却で超分子構造転移が起る温度範囲を確立。光学顕微鏡,回折計を用いて研究;写図2表1参8

シソーラス用語： 光散乱 ,  相転移 ,  超分子構造 ,  薄膜
準シソーラス用語： カルパニル酸エチル ,  カルパニル酸エチル/フェニル ,  フェニル ,  ポリオキシメチレンジアセタート ,  顕微鏡法 ,  固相転移

タイトルに関連する用語 (5件)： カルバマート ,  超分子構造 ,  薄膜 ,  形態 ,  光散乱