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J-GLOBAL ID：201602011961834774   整理番号：71A0038360

X線マイクロアナライザによる化合物薄膜の組成解析 I 窒化物薄膜の組成決定

著者 (2件)： 伊藤昭夫 ,  三沢俊司
資料名： 電気試験所い報  (電子技術総合研究所い報)
巻： 34  号： 11  ページ： 927-935  発行年： 1970年 
JST資料番号： F0014A  ISSN： 0366-8886  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 200・-1500AのTiNおよびZrN薄膜の組成の不均一性などをX線マイクロアナライザで調査した。スパッタリング法と蒸着法のそれぞれで作つた薄膜は通常の化学分析ではその差はわからず,X線回折などでは薄すぎて分析不可能であるが,X線マイクロアナラィザによれば・その差が明らかになった。スパッタリング法は化学等量論的に成長しているが,蒸着法はZrNxの場合x=1.3で最もZrNが成長している;写図9表4参5

シソーラス用語： X線マイクロアナライザ ,  スパッタリング ,  蒸着 ,  薄膜

タイトルに関連する用語 (6件)： X線マイクロアナライザ ,  化合物薄膜 ,  組成 ,  解析 ,  窒化物 ,  薄膜