抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
東レで開発したプロセスの基礎的挙動の解析,触媒充てん層の設計,全系の最適化の考え方について述べた.本プロセスの特長は,(1)シクロヘキサン収率は99.7%以上であること,(2)H2利用率を97%以上にできる.(3)触媒は耐毒性が強く長期間(2年以上)安定して使用できる(シリカを担体としたNi),(4)非常に高純度(99.99%)のシクロヘキサンが得られることなどである:参24